500W RF 500W DC三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購；所配電源為500W直流電源和500W射頻電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，射頻電源可用于非金屬膜的制備，三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要，可以定制其他射頻電源和脈沖電源，各型電源均有300W到1000W多種規(guī)格可選。

鍍膜儀配有兩路高精度質(zhì)量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求；儀器標配先進的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現(xiàn)在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制，在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進一步提高您的實驗效率。

應用領域

該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。

名稱	三靶磁控濺射鍍膜儀(500W RF&500W DC)
特點	鍍膜速率高，樣品溫升低，典型的高速低溫濺射 觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡單易上手
技術參數(shù)	供電電壓： AC220V，50Hz 整機功率 ：4KW 載樣臺參數(shù)： 尺寸 φ140mm； 加熱溫度 *高500℃； 控溫精度 ±1℃； 轉(zhuǎn)速 1-20rpm可調(diào) 磁控濺射頭：2” x3 （1”,2”可選）； 水冷（水冷機規(guī)格 10L/min流速的循環(huán)水冷機） 真空腔體 ：尺寸 φ300mm X 300mm H，不銹鋼； 觀察窗口 ：φ100mm； 開啟方式： 上頂開式，便于更換靶材 質(zhì)量流量計： 2路分別通Ar，N2； 量程均為0-100sccm（可根據(jù)客戶需要定制多路氣路） 真空系統(tǒng) ：產(chǎn)品型號 CY-GZK103-A                   抽氣接口 CF160，排氣接口KF40 分子泵 CY-600 前極泵： 旋片泵                   真空測量：復合真空計 極限真空：1.0E-5Pa 供電電源 AC;220V 50/60Hz 抽氣速率：分子泵：600L/S，旋片泵：1.1L/S  綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達： 1.0E-3Pa 濺射電源 ：直流電源500W 射頻電源500W
規(guī)格	尺寸：600mm X 650mm X 1280mm；重量：300kg